在集成电路制程中,经常使用的CVD技术有: (一)『大气压化学气相沈积』(atmospheric pressure CVD)系统:在近于大气压的状况下进行化学气相沈积的系统 (二) 『低压化学气相沈积』(low pressure CVD)系统:
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大气压化学气相沈积
Atmospheric pressure chemical vapor deposition
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