选择Stepped Base产生一个双台阶底座,跟base的参数相比,双台阶底座比base多出两个参数 Step Height(台阶高度)、Step Offset(偏置距离),数值可以按需要进行修改。
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A novel CHICM system is presented to measure the step height of a mask.
针对掩模板台阶高度测量,提出了共光路外差干涉共焦显微测量系统(CHICM)。
参考来源 - 用于掩模板表面形貌测量的外差干涉显微系统的研究·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress
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