我们已经开发了一种双组分的化学辅助离子束蚀刻（CAIBE）高速多量子阱（MQW）的激光反射镜的干式蚀刻技术。这种双组分的过程中的干式蚀刻的含Al的光电器件的结构，仅与Cl2放松几个约束。
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化学辅助离子束刻蚀 CAIBE
化学辅助离子束蚀刻
Chemical assisted ion beam etching
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