• global planarization - 引用次数：10

  The Chemical mechanical Polishing (CMP) is the only global planarization techniques.

  化学机械抛光CMP是目前最好的也是唯一能实现全局平面化的技术。

  参考来源 - 甚大规模集成电路中铝布线及铝插塞化学机械抛光的研究

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