光蚀刻 photoetching 简称光刻。利用照相手段制作抗蚀膜像，用来保护表面，在金属、塑料等上面，借助腐蚀剂进行腐蚀的方法。应用于制作印片或电器的线路板等。
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激光蚀刻技术 Laser
光蚀刻微影 photolithography
激光蚀刻 laser lithography ; Laser Etching ; laser-induced thermal etching
接触光蚀刻 contact lithography ; contact photolithography
步进式曝光蚀刻 optical stepper lithography
光蚀刻清晰度 optical lithographic resolution
光蚀刻法 photo etching
无接触光蚀刻 contactless lithography
激光蚀刻的笔记本电脑 Laser Etched Laptops
但不同的是存储硬件所存放的数据是一些电磁信号，或者是一些激光蚀刻光点。
Except that it stores data as electromagnetic signals or laser-etched spots.
去除光阻剂以后，其他机器会在蚀刻痕迹中填入各种各样的材料，如铜或铝，它们是构成处理器的组件之一。
After removing the photoresist, other machines can fill those trenches with various materials, such as copper or aluminum, that comprise the components of the processor.
对该些凸块进行蚀刻，以平坦化该些凸块的表面；移除该图案化光阻层；
Then fulfill the etching for these bumps to flatten the surface of these bumps.
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