紫外光微影术较大难题是需搭配defect-free、高度平坦程度的光罩基底(Mask Blank)，并搭配可检测、修补光罩的设备偕同运行进行制程。因应半导体产业所需的高精度制程与持续维持30%的成本优化，EUVL极短紫外光微影...
基于28个网页-相关网页
光罩基底
Mask base
以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动