在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆（wafer）制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。
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光掩膜是半导体和精密加工的必要成分。
A photomask is an essential component for semiconductor manufacturing and microfabrication.
此图显示的就是光掩膜，上面印有将打印到硅晶片上的图案。
Shown here is a photomask, which bears the patterns that will be printed onto a wafer.
平板印刷室里面点着黄色的灯，避免光掩膜与紫外线相互干扰。
The lithography room is lit with yellow light to avoid interference with the UV light used with the photomasks.
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