另外，尺寸仅为0.15平方微米的高密度SRAM工艺采用了两次图形曝光(double patterning)的193nm浸润式光刻技术。
基于40个网页-相关网页
两次图形曝光
Double pattern exposure
以上为机器翻译结果，长、整句建议使用 人工翻译 。
应用推荐
模块上移
模块下移
不移动