该案涉及的专利的专利号为No.6042998，与双重图形光刻技术(double patterning lithography technology)有关，这种技术对于芯片制造非常重要。随着晶体管和其他组件变得越来越小，所有的芯片厂商都在寻找芯片生产新技术。
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与双重图形光刻技术
With dual pattern lithography
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