晶圆内(WIW)和晶圆对晶圆(WTW)的均匀性都会受到研磨衬垫状况,向下之力的压力分布,晶圆对衬垫的相对速度,固定环的位置以及晶圆形状的影响.
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从电路和器件角度考虑， TSI波动最大容许值是±5å；在晶片内 (WiW)，TSi 表示晶片总不均匀性范围；在晶片之间(WtW)，TSi 表示可复制性。
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