晶圆内(WIW)和晶圆对晶圆(WTW)的均匀性都会受到研磨衬垫状况,向下之力的压力分布,晶圆对衬垫的相对速度,固定环的位置以及晶圆形状的影响.
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... witness证据；证人；目击者；作证 WIW注水井 WJD水射流钻井 ...
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硬垫可获得较好的 模内均允性(WID)和较大的平面化距离，软垫可以改善片内 均匀性(WIW)，为获得良好的WID和WIW，可组合使用软、 硬垫 [2] 。抛光垫常为含有聚氨基甲酸酯的聚酯纤维毡。
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从电路和器件角度考虑， TSI波动最大容许值是±5å；在晶片内 (WiW)，TSi 表示晶片总不均匀性范围；在晶片之间(WtW)，TSi 表示可复制性。
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