...h-voltage glow-discharge ion source 高压辉光放电离子源 Low-voltage arc ion source 低压电弧离子源激光离子源 Laser ion source 激光离子源 ..
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low-voltage arc ion source [分化] 低压电弧离子源
voltage arc ion source
电压电弧离子源
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The plasma source ion implantation device consists of pulsed negative high voltage power, hot cathode arc discharge system, vacuum chamber and target stage, vacuum system and monitor system.
等离子体源离子注入装置由脉冲负高压源系统、热阴极弧放电系统、真空室及样品台、真空系统和监测系统等五部分组成。
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