近来UV纳米压印光刻（UV-NIL）技术取得了一定的进展，它可以利用商用系统通过次级印模的分步重复制模工艺制造主印模。
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纳米压印技术主要包括热压印(HEL)、紫外压印 (UV-NIL)、步进一闪光压印技术以及微接触印刷(FCP)，最有可能进入集成电路量产的应属步进一闪光压印技术。
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...压 印光刻工艺主要包括热压印(Hot embossing lithography，HEL)、紫外纳米压印(Ultra- violet nanoimprint lithography ，UV-NIL) 和微接触印刷(Microcontact print ，μ-CP， MCP) 。
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...高集成UV纳米压刻光刻技术(UV-NIL)的追踪系统融入了EVG集团在光刻和抗蚀剂处理领域的专业技术; 这种技术*初应用于光子、MEMS 和NEMS设备上 2015 年7月7日，...
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