非平衡磁控溅射技术在钛合金(TiAlV)表面沉积SiNx薄膜，研究结果表明，随着P/P的增加，Si-N键的含量增加，吸收峰(870～930cm)向高波数偏移，吸收峰(475～490cm)的峰强...
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