Film etching method] 本发明为一种薄膜刻蚀方法，是应用于一半导体或薄膜晶体管阵列(TFT Array)的薄膜制造流程中，用以改良现有刻蚀后产生倒角(Undercut)的问题， 或使刻蚀后的薄膜形状更加的完美。
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二,中游—TFT-LCD 面板制造 TFT-LCD 制造为价值链之核心,制程主要可分为三大部分,一是薄膜电晶 体阵列基板(TFT Array)制作,二是液晶面板组装(LC Cell Assembly)及液晶面板 模组组装(Module Assembly).
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背光模块位于液晶层（TFT Array）面板之后担任提供光源。黑色滤光片给每个像素一个特定的颜色，结合每一个不同颜色的像素出现出来的就是面板前端的图像。
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