单源化学气相沉积（SSCVD）是制备Zn0薄膜的一种新型的重要的化学方法。 与传统的CVD工艺将反应物由气相引入到真空室发生反应形成薄膜不同，它是以 固相有机...
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固体源化学气相沉积生长ZnO材料 利用固体源化学气相沉积(SSCVD),作者也实现了ZnO的P型转变,电阻 率也可以达到~101l'2cm。N掺杂P型ZnO薄膜具有(100)和(110)的混合取 向,为网状薄膜。
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