... sputtering source ==> 溅射源 sputtering target ==> 溅射靶 sputtering yield ==> 溅射效率,溅镀率,溅镀系数,溅射率,溅射系数 ...
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...平面显示器到一般的玻璃表面涂层， 物理溅镀 (Physical Vapor Deposition) 的 应用愈来愈普遍， 溅镀靶材 (Sputtering Targets) 这种高附加价值的功能性材 料之使用量也就逐年增加， 在庞大市场的诱因之下， 许多溅镀靶材之制造厂家 早已投入可观之研发经费...
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Keywords Aluminum alloy films ,Sputtering targets ,Wiring of IC [gap=122]关键词 铝合金薄膜 溅射靶材 集成电路
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titanium sputtering target 溅射靶材
Sputtering target materials 镀膜材 ; 溅射靶材
LCD sputtering target LCD溅射靶材
MF sputtering target 中频溅射靶
tantalum sputtering target 钽溅射靶
sputtering target material 溅射靶材
magnetron sputtering target 磁控溅射靶
Uses: sputtering target, physical vapor deposition, high temperature alloys.
溅射靶材、物理气相沉积、高温合金。
The thickness uniformity of films deposited by planar magnetron sputtering target was analyzed theoretically.
从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性。
A new net-shape cathode sputtering target which has a simple structure and a high sputtering rate was put forward.
设计了一种网状阴极溅射靶，它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。
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