Reactive sputtering source 反应溅射源
magnetron sputtering source 磁控溅射源
sputtering ion source 溅射离子源
dc sputtering power source 直流溅射电源
high temperature sputtering ion source 高温溅射离子源
Cs sputtering negative ion source 铯负离子溅射源
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The utility model relates to a semi-circular column magnetic control sputtering cathode, belonging to a sputtering source component of a magnetron sputtering device.
一种半圆柱磁控溅射阴极，属于磁控溅射装置中的溅射源部件。
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