停止层或蚀刻停止层3可保护其下方的层,蚀 刻停止层3可包括氮化硅(SixNy)、氮氧化硅(SiON)、碳化硅(SiC)、 碳氧化硅(SiOC) 、 二氧化硅、热氧化物、以四乙基硅酸盐(TEOS)作为 反应气体的氧化物或其他材料...
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,按照目前的制造,该装置由夹在所有这些趴在薄的低应力的氮化硅膜(SixNy)的电极之间的压电材料的氮化铝(AlN)。膜集成在小的微型加热器的频率调谐和/或温度稳定。
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