所述陈化方法包括以下步骤:在操作等离子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室中出现的基于硅氧化物(SiOX)的化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物(CFY)的化学物种的光发射强度的比;确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预...
基于84个网页-相关网页
nano-SiOx 纳米氧化硅
SiOX thin film 氧化硅薄膜
SiOx film SiOx薄膜
SiOx nanowires 硅氧线
nanometer SiOx 纳米SiOx
SiOx薄膜 SiOx film
SiOx nanoparticle 硅氧化物纳米粒子
SiOx amorphous thin films SiOx非晶薄膜
应用推荐