本文采用PECVD技术制备出的高折射率薄膜材料氮化硅(SiNx)、高激光损伤阈值薄膜材料氧化硅(SiOx)以及低折射率薄膜材料含氟氧化硅(SiOxFy)作为激光高反膜制备需要的薄膜材料,研究了SiNx材料、SiOx材料和SiOxFy材料的最佳制备工艺...
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所述陈化方法包括以下步骤:在操作等离子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室中出现的基于硅氧化物(SiOX)的化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物(CFY)的化学物种的光发射强度的比;确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预...
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CTS-SiOx 复合膜
nano-SiOx 纳米氧化硅
NP-SIOX 氧化酶
SiOX thin film 氧化硅薄膜
SiOx film SiOx薄膜
nanometer SiOx 纳米SiOx
SiOx nanowires 硅氧线
SiOx薄膜 SiOx film
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