射频PECVD
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RF-PECVD 沉积 ; 气相沉积法 ; 积法
HF-RF-PECVD 相沉积
DC-RF-PECVD 直流射频等离子增强化学气相沉积
high-pressure RF-PECVD 高压RF
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Silicon nitride thin films were prepared onto steel substrates by radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) technique.
采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF - PECVD)在钢衬底上沉积氮化硅薄膜。
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