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rf-pecvd

网络释义专业释义

  沉积

采用射频等离子体化学增强型气相沉积(rF-PECVD)法沉积了掺氮氟化非晶碳膜.研究了不同射频功率下薄膜样品表面形貌及I-U特性,比较了试样I-U曲线的对称性及零点漂移;分析了直接沉积...

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  气相沉积法

采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330℃的温度下沉积a-SiNx∶H薄膜。

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  积法

...备氮化硅薄膜主要有等离子增强型化学气相淀积法(PECVD)、低压化学气相淀积法(LPCVD)、射频等离子增强型化学气相淀积法(RF-PECVD)、光化学气相淀积法(光CVD)等等。等离子增强型化学气相淀积(PECVD)是目前较为理想和重要的氮化硅薄膜制备方法。

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短语

rf PECVD 射频PECVD

HF-RF-PECVD 相沉积

DC-RF-PECVD 直流射频等离子增强化学气相沉积

high-pressure RF-PECVD 高压RF

 更多收起网络短语
  • 射频pecvd - 引用次数:2

    参考来源 - 利用射频PECVD方法生长类金刚石薄膜的实验研究

·2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress

双语例句

  • Silicon nitride thin films were prepared onto steel substrates by radio-frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD) technique.

    采用射频等离子体增强化学气相沉积法(RF - PECVD)在衬底上沉积氮化薄膜

    youdao

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- 来自原声例句
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