double resist exposure 双掩膜曝光
electron-beam photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
Electron-order photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
Thick resist exposure model 厚层抗蚀剂曝光模型
n-beam photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
Electron-grin photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
Electron-streham photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
Electron-strein the morning photo-resist exposure 光致抗蚀剂的电子束曝光
The good agreement between the experimental and theoretical results allows to get the high pattern transfer accuracy microstructure through optimizing exposure dose for different resist thicknesses.
因此，可以通过模拟结果得到不同厚度光刻胶的最佳曝光剂量，以便得到高质量的微结构图形。
Resist composition for immersion exposure and pattern formation method using the same.
高桥表 TAKAHASHI HYOU： 浸渍曝光用光阻组成物及使用它之图案形成方法。
应用推荐