...了一层高电导率层，硅化物工艺减小了扩散电阻（图中Rshunt部分）;同时因为增加了有效接触面积，所以也减小了接触电阻（Rcontact）。 自对准硅化物（Salicide）工艺已经成为近期的超高速CMOS逻辑大规模集成电路的关键制造工艺之一。
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