2、前扩散 (pre-deposition) 第一种定浓度边界条件的浓度解析解是所谓的互补误差函数，其对应之扩散步骤称为「前扩散，即我们一般了解的扩散制程；当高温炉...
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预先沉积法( Pre-deposition ): 将晶片置于石英炉管中,温度 设定范围800 ℃至1200 ℃, 加入高浓度的掺杂杂质元素 使其进入晶片的表面晶格中。
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Washing: including pre-washing and pre-deposition washing.
清洗：包括初清洗和成膜前清洗。
This application discloses methods for pre-deposition treatment of materials prior to ESC deposition.
本申请公开了用于在ESC沉积之前对材料进行预处理的方法。
The results show that the adhesion of the diamond films which are slowly cooled after the deposition is the worst and that pre…
试验结果表明，采用沉积后缓冷试样的金刚石膜的结合力最差；
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