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plasma ashing
等离子体灰化:一种用于去除材料表面有机物的过程,通过使用等离子体产生的高能离子和自由基来氧化有机物。
专业释义
英英释义
电子、通信与自动控制技术
等离子灰化
·
2,447,543篇论文数据,部分数据来源于NoteExpress
Plasma ashing
abstract:
In semiconductor manufacturing plasma ashing is the process of removing the photoresist from an etched wafer. Using a plasma source, a monatomic reactive species is generated.
以上来源于:
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