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photoetching technology

  • 光刻工艺

网络释义专业释义

  光刻工艺

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短语

dry photoetching technology 光刻干工艺

  • 光刻工艺 - 引用次数：6

    In this passage,the steady photoetching technology of BP-212 positive photoresist is researched. BP-212 positive photoresist is used in patterning glass and anodic aluminum oxide (AAO) templates.

    本文分别以玻璃片和AAO模板为基底,使用BP-212型紫外正性光刻胶,进行光刻工艺条件的研究,找到了在本实验条件下的稳定光刻工艺。

    参考来源 - 紫外光刻法制备图案化的低维纳米结构陈列

·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress

双语例句

  • At same time, it has been pointed out that the photoetching technology and printing technology have important application in color PDP display.

    同时，也指出光刻技术和印刷技术在彩色PD P显示器中的重要应用。

    youdao

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