化学气相沉积(Plasma Chemical Vapour Deposition)
除了靠热能让气体 产生裂解外，CVD 也依照不同能量方式分为电浆增强型化学气相沉 积（PECVD）、光反应式化学气相沉积（PHCVD）等。表一为APCVD、 LPCVD 以及PECVD 之优缺点比较。
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光反应式化学气相沉积法(PHCVD) 常压化学气相沉积法（APCVD） 所谓常压化学气相沉积法（APCVD，Atmospheric pressure CVD），顾名思义，就是在气压接 近常压下进...
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