通过利用高频等离子体辅助分子柬外延(RFPAMBE)及等离子体增强有机化学气相沉积(PEMOCVD)技术开展生长ZnO单晶薄膜以及通过共掺杂方法制备低阻p型ZnO材料的研究，获得高质量的ZnO单晶薄膜和低阻p型ZnO。
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The cleaning of hydrogen and nitrogen ECR plasma on sapphire substrates are carried out in the calibrated temperature system and evaluated by analyzing RHEED image in ECR-PEMOCVD system.
最后讨论了在经过校温的系统上进行蓝宝石衬底的氢氮等离子体清洗实验，并通过RHEED图像评价清洗结果质量。
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