沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是将低压气体放电形成的等离子体应用于化学气相沉积的一项具有发展前途的新技术。
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...境与工程》2013年02期 功能材料 等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响 1引言等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是制备现代功能薄膜材料的重要工艺技术,已经广泛应用于制备大面积微电子器件,光电转换以及光电子显示器件等领域的功能薄膜。
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VHF-PECVD 甚高频电源
RF-PECVD 沉积 ; 气相沉积法
STS PECVD SYSTEM 等离子增强淀积机
rf PECVD 射频PECVD
VHF PECVD 甚高频等离子体化学气相沉积
First of all, plasma physics, PECVD equipment and its process principles are explained.
首先，对电浆物理、PECVD设备及制程原理加以阐述。
Series of microcrystalline silicon thin films were fabricated by VHF-PECVD at different substrate temperatures (Ts).
采用VHF-PECVD技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜样品。
The electrical and structural properties of microcrystalline silicon thin film and solar cells fabricated by VHF-PECVD were studied.
本文对VHF PECVD制备的本征微晶硅薄膜和电池进行了电学特性和结构特性方面的测试分析研究。
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