深紫外光技术并非不可采用，而是目前电源障碍仍未跨越，成本仍然过高，多重电子束(Multiple E-beam)则也还赶不及正式推出22奈米制程解决方案，所以进入22奈米制程，几乎已经确定浸润式微显影采用双重曝光是最可行的解决之道。
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multiple e beam interferometry 多重光束干涉量度法
multiple e-beam
多个电子束
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