• 多层掩模 - 引用次数：2

  Thus a multilayer mask is presented,which consists of a Cr metal layer and a Su-8negative photoresist layer.

  因此提出使用Su-8负性光刻胶结合铬金属制备多层掩模。

  参考来源 - 硅各向同性深刻蚀中的多层掩模工艺

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