...子技术将SiOxCyHz(主要为四甲基二硅氧烷(Tetramethyldisiloxane))蒸镀于聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)基材上，压力为27毫托(mTorr)，但是其采用真空制造方法不仅费时、费工、昂贵，且所制成镀膜的疏水性及硬度不佳。
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This method is based on the kinetic model of nitrogen and can be used in pressure range 1-100 mTorr.
这种方法基于氮等离子体动力学模型，适用于气压范围1-100毫托。
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