外延(MBE)和金属有机化学气相沉积(MOCD)；(2)、SIE微米(0．1～0．5∥所)光刻技术； (3)全离子注入技术、干法刻蚀技术以及高温栅技术：(4)计算机辅助设计(CAD)和
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主要方法是液相外延（P）．近年来人们也使 ELE法用了金属有机物化学气相淀积（MOCD）V法和分子束外延rE法。MB） 液相外延是在衬底材料上，利用饱和溶液淀积生长外延层。
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ALXN1101用于治疗A型钼辅酶缺乏症(MoCD)，该病是一种致命疾病，新生儿在出生的第一个星期即患致死性脑损伤，这一疾病是由缺乏环吡喃蝶呤单磷酸（CPMP）引起的。
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