...）对不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析，测定了薄膜的厚度和硬度，研究了薄膜的摩擦学性能，并与中频磁控溅射（MFMS）技术制备的CrNx进行比较。结果表明，使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术（HPPUMS）能制备致密的CrNx薄膜。
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