集成电路布图设计的保护客体有不同的称谓,但其本质并无太大差别,美国称为掩膜作品(mask work),中国、瑞典、俄罗斯、韩国称为布图设计(layout-design),日本称为电路布图(circuit layout),欧共体、英国、德国、荷兰、法国...
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...一、集成电路布图设计的特有含义 集成电路布图设计在国际条约与各国立法中的名称是五花八门,美国称为掩模作品(mask work),欧共体的理事会指令将其称为拓扑图(topography,日本称之为电路布局(circuit layout,韩国、中国均称之为集成电路布图设计(lay...
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1984年11月8口,由美国国会通过的《半导体芯片保护法》正式生效,开始对体现在半导体芯片产品中的“光罩作品”(mask work)或集成电路布图提供保护。这是当时世界上唯一对光罩作品或集成电路布图提供保护的法律。
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