... mask pattern layout 掩模图形布置图 mask pattern 掩模图案 mask processing, programmable read-only memories 可规划仅读记忆器罩幕处理 ...
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mask pattern layout 掩模图形布置图
mask pattern generator 掩模图案发生器
photoresist mask pattern 光致抗蚀剂掩模图形
oxide-mask pattern 氧化层屏蔽图型
Mask Pattern Reference 掩模图形参考 ; 翖
mask pattern decomposing 掩膜图形分解
mask pattern data process 版图数据处理
To improve the recognition of the sequence 2-D barcode,we use the mask pattern solution. We focus on the mask pattern design and set up a math evaluation module for evaluation to select mask pattern.
为了提高二维条码的识别率,在系统设计中,连续型二维条码使用了掩模方案,本文对该二维条码掩模后数据归于正态分布的二维矩阵建立一种数学评估模型,用于评估这些掩模后的图形所形成的分布最优,从而进行掩模的选择。
参考来源 - 连续型二维条码的容错技术与掩模方案·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
The design procedures of both circuit and mask pattern are considered.
从电路和版图设计两方面论述了该电路整个设计过程。
Applying MTP specifications for write times improves the new process's performance while limiting increased steps in mask pattern lithography to three or fewer, and even none.
同时限制在掩模图案的光刻增加步骤以三个或更少，甚至没有施加的MTP规格为写入时间提高了新工艺的性能。
This layer is exposed to ultraviolet light through a mask that represents the required pattern.
然后用紫外线通过露光模板的光孔照射到印刷台的粘土层，以此塑造出需要的模型图案。
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