五微米光罩制作系统（ Mask Making System） 目前共有三阶段的照相缩影系统 ..
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... 模式制作系统 pattern-making system 掩模制作系统 mask making system 制作系统,装备系统 make system ...
mask making system
掩模制作系统
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Mask making with one step exposure and device making with multiple overlay exposure are applications of the system.
激光直写系统的应用，可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。
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