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1 NdFeB永磁薄膜的制备方法1.1磁控溅射法磁控溅射法(magnetron sputtering)是NdFeB永磁薄膜最常用的制备方法之一,其制备原理是在高真空充入适量氩气,经阴极和阳极所加的高直流电压(约几百千伏)的作用,在溅...
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定义 中文名称： 磁控溅射镀 英文名称： magnetron sputtering 定义： 采用磁场束缚靶面附近电子运动的溅射镀。 应用学科： 机械工程（一级学科）； 表面工程（二级学科）； 气相沉积（二级学科） 以上内容由 全国科学
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RF Magnetron Sputtering 射频磁控溅射 ; 射频磁控溅射法
Magnetron Sputtering System 磁控溅射系统 ; 磁控管溅镀系统
ExB magnetron sputtering system 直交电磁场型溅镀系统
planar magnetron sputtering system 平面磁控管溅镀系统
coxial magnetron sputtering system 同轴磁控管溅镀系统
unbalanced magnetron sputtering 非平衡磁控溅射 ; 采用非平衡磁控溅射
magnetron sputtering method 磁控溅射法
Reactive magnetron sputtering 溅射法 ; 反应磁控溅射
DC Magnetron Sputtering 直流溅射 ; 磁控溅镀 ; 直流磁控溅射
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磁控溅射 - 引用次数：421
Titanium nitride thin film is deposited on Si(111) substrate by DC reactive magnetron sputtering.
采用直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上沉积了氮化钛薄膜。
参考来源 - 溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响 -
磁控溅射 - 引用次数：299
The results of this work are summarized as follow:1. We deposited ZnO films on different kinds of substrates by the method of RF magnetron sputtering.
主要研究工作和结论如下:1、采用射频反应磁控溅射的方法,在不同衬底上制备了ZnO薄膜。
参考来源 - ZnO薄膜的制备及其特性研究磁控管溅射磁控溅镀
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