我们采用低压环境中射频激发等离子增强化学气相沉积法(LPPCVD) ,用 溴乙烷和氢气做源气体,通过对溴乙烷流量的控制,制得掺溴的非晶碳梯度薄膜,并获得了薄膜沉积速率随氢 气流量的变化情况 [ 83...
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