利用光刻技术（Lithography Technology）， 分别在电子显微镜和拉曼光谱仪上固化负性光刻胶（Negative Photoresist），在硅 片上得到不同尺寸大小的通道图案。
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Inverse Lithography Technology 反向光刻印刷技术 ; 反向光刻技术 ; 逆平版印刷技术
E-beam nano-lithography technology research 电子束纳米光刻技术研究
nano-lithography technology 纳米光刻技术
maskless lithography technology 无掩模光刻技术
immersion lithography technology 浸入式光刻技术
holographic lithography technology 激光全息技术
electron-beam lithography technology 电子束光刻技术
deep submicron lithography technology 深亚微米光刻技术
double patterning lithography technology 与双重图形光刻技术
In this paper, Focused Ion Beam Lithography technology and is introduced.
对聚焦离子束曝光技术作了介绍。
Fabrication of nanostructures is an important part of nanotechnology, and atom lithography technology is a new nanostructure fabrication method.
纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分，原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法。
Microfabrication of periodic structures by holographic lithography technology combining with visible laser-induce photopolymerization is developed in this paper.
本文报道用激光全息技术结合可见光光聚合制作周期结构的方法和物理机制；
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