微影成形 ( Lithography Patterning ) ~10 years ago ~25 years ago 摩尔定律 ： IC上可容纳的电晶体数目，约每隔18个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。
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patterning or lithography 微影技术 ; 光刻技术
double patterning lithography 光刻技术
double patterning lithography technology 与双重图形光刻技术
lithography patterning
光刻图案
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