5．液相沉积法 液相沉积法（Liquid Phase Deposition，LPD）是由Nagayama［661在1988年 提出来的利用过饱和溶液制备金属氧化物薄膜的新方法。
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...：掩膜的制备 可以采用不同的方法生长不同的氧化物薄膜，本实验使用的掩膜为si02薄膜分别经 液相沉积（Liquid phase deposition，LPD）法和磁控溅射法（Magnetron Sputtering）获得。
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chemical liquid phase deposition 化学液相沉积
liquid phase deposition lpd 液相沉积法
novel liquid phase deposition 新型液相沉积
liquid phase deposition method 液相沉积
liquid-phase deposition method 液相沉积法
liquid phase deposition process 液相沉积法
liquid-phase local deposition 液相局域沉积
Liquid phase electro-deposition 液相电化学沉积
It was found that the growth of GeO_2 particles in the liquid phase deposition process follows the BFDH and HP crystal growth models.
研究表明,酸诱导锗酸根离子液相沉积GeO_2粒子的过程遵循BFDH和HP晶体生长模型。
参考来源 - 液相沉积法合成二氧化锗类材料的研究Compared with common liquid phase deposition and Sol-Gel method, there are no flaws and holes on the films, whose surface are plane.
与普通液相沉积法和溶胶-凝胶法相比,从薄膜上观察不到孔洞和裂纹,表明薄膜结构致密,表面均匀平整。
参考来源 - TiO·2,447,543篇论文数据，部分数据来源于NoteExpress
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