LCVD激光化学沉积就是用激光束的光子能量激发和促进化学反应的薄膜沉积方法激光化学气相沉积的过程是激光分子与反应气分子或衬材表面分子相互作用的工程 按激光作用的机制可分为激光热解沉积和激光光解沉积两种前者利用激光能量对衬底加热可以促进衬底表面的化学反应从而达到化学气相沉积的目的后者利用高能量光子可以直接促进反应气体分子的分解
...理沉积(LPVD)主要是利用蒸发机制制膜，利用此种方法可以制非金属膜，也可以制金属膜（包括难熔金属膜）。激光化学气相沉积(LCVD)是利用激光束的局部高温、高能诱导反应气体发生化学反应沉积成膜的方法。
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文摘： 光诱导化学汽相淀积(LCVD)技术是一种新的低温化薄膜制备技术。本文评述了LCVD技术的特点、原理和装置,着重讨论了利用这种技术制备金属、半导体与化合物和介...
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...相淀积)的缩写,勺70”代表反应室工 粗作面积为270 x 270mm:,气”表示有一个反应室.PVD亦可称光CvD.光CVD中一般包含激光CVD(LCVD)和Hg敏化光CvD两种类型,PVD一270一1型属于后者。Hg敏化光CVD是利用水银蒸气作光敏化剂增强光化学气相反应.
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The wide application prospect of LCVD technology is describ…
作者还对该技术的广泛的应用前景予以展望和肯定。
The wide application prospect of LCVD technology is described here.
作者还对该技术的广泛的应用前景予以展望和肯定。
In order to repair the clear defects of photomask, photolytic LCVD process is required to initiate the chemical reactions.
为了对透明光掩模亮场区域进行修补，需要光化学解离过程诱导反应发生；
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