... Bragg peak 释义：布拉格峰,电离吸收峰 ion chamber device 释义：电离室装置 pulse ionization chanber 释义：脉冲电离室 ...
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ion-chamber device 电离室装置
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The plasma source ion implantation device consists of pulsed negative high voltage power, hot cathode arc discharge system, vacuum chamber and target stage, vacuum system and monitor system.
等离子体源离子注入装置由脉冲负高压源系统、热阴极弧放电系统、真空室及样品台、真空系统和监测系统等五部分组成。
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