ion-mask，纳米离子封膜技术。最早由英国国防部研发，当初主要用于军用防水、防毒、防化学武器方面，后来由英国第一户外运动鞋品牌HI-TEC公司全权购买其技术，应用到鞋类产品当中，由此产生了户外鞋面料技术革新的里程碑。
Hi-Tec是采用了“离子面具(ion-mask)”工艺，利用等离子体注入技术将离子防护层与鞋面相结合，可以使其表面形成一种分子级的憎水憎油层从而有效防水，而且在生产中这...
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Last, a technique known as anisotropic ion beam milling (IBM) is used to etch through the mask to make an array of holes, creating the nanoporous metal.
最后，采用各项异性的离子束(IBM)加工技术可以通过掩膜来蚀刻孔阵，以制成纳米多孔金属材料。
Photoresist grating was fabricated by holography, and it was used in the mask of ion etching.
采用全息法制备了光刻胶光栅，并用该光栅掩膜离子蚀刻。
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