angled ion implantation 倾斜离子注入
maskless ion implantation 无掩模离子注入
masked ion implantation 掩蔽离子注入
high dosage ion implantation 高剂量离子注入
ion implantation gettering 离子注入吸除
ion implantation mask 离子注入掩膜
ion implantation annealing 离子注入后退火
low energy ion implantation 低能离子注入
low dosage ion implantation 低剂量离子注入
emitter ion implantation 发射区离子注入
Coating by physical vapour deposition (PVD), coating by chemical vapour deposition (CVD) and surface layer modification by ion implantation, all three are being tested and are partly in use.
涂层的化学气相沉积(CVD)和表面层改性的物理气相沉积(PVD)涂层的离子注入，所有三个正在受到考验，并部分使用。
Plasma source ion implantation is a new non-line of sight ion implantation technique for surface modification of materials.
等离子体源离子注入技术是一种新型的非视线的离子注入材料表面改性技术。
Deep ion implantation modulates punch -through voltage.
深离子注入调整源漏穿通电压。
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