...mpany公布了其process的roadmap，已经在45nm“Shanghai”处理器制造上成功应用的沉浸式光刻技术(Immersion Lithography process)将在明年的32nm工艺上发挥至关重要的作用。
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immersion lithography process
浸没光刻法
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The invention mainly relates to a new material and process for immersion lithography.
本发明主要涉及浸渍光刻技术的新材料和工艺。
youdao
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