据专家说法，先进的193奈米浸润式微影(immersion lithography)工具，采用折射率为1.44的非离子水(de-ionized water)，预计能处理节点小至32奈米的晶圆。
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...45nm 器件工艺中，使用的曝光光源仍然是 193nm 第4 页 共28 页 光源，在此工艺中使用了浸入式光刻技术（Immersion Lithography）， 成功解决了用193nm 光源曝光45nm 器件的难题。
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Immersion Lithography process 沉浸式光刻技术
Immersion lithography Illustration 式光刻
immersion lithography equipment 式光刻机
arf immersion lithography arf浸没式光刻
immersion lithography scanner 米浸润式微影扫描机
immersion lithography technology 浸入式光刻技术
nm arf immersion lithography equipment nmarf浸没式光刻机
Immersion ArF Lithography 浸没式ArF光刻
以上来源于: WordNet
The invention mainly relates to a new material and process for immersion lithography.
本发明主要涉及浸渍光刻技术的新材料和工艺。
Coating compositions of the invention are useful as photoresist overcoat layers, including in immersion lithography processing.
本发明的涂料组合物可用作光致抗蚀剂的覆盖涂层，包括可用在浸渍平版印刷工艺中。
It will also use copper interconnects, low-k, strain silicon and other features. Like 32-nm, Intel will make use of 193-nm immersion lithography.
这款产品将使用Intel第三代HKMG工艺，第五代硅应变技术，另外与32nm类似，22nm制程仍将继续使用193nm液浸式光刻技术。
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