等离子体聚合有机硅(HMDSN)薄膜及其特性研究
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O2/HMDSN(六甲基二硅氮烷),和Ar作为沉积前体和电离气体,分别。工艺参数,包括氧气流速和喷嘴到样品的距离用FTIR,X射线光电子能谱(XPS),扫描电镜(SE...
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书名 轻金属以脉冲电浆沉积六甲基二矽胺(HMDSN)薄膜之研究 部分章节
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