我们已经调查了电性能和热稳定性在结晶条件由临界入射X-射线衍射（GI-XRD）和X-射线光电子能谱（XPS）的Hf-硅酸盐（HfSiO），氮化铪硅酸盐（的HfSiON）闸极介电层。它示出，用氮气掺入的膜，HfSiON薄膜相比具有优异的热稳定性相应HfSiO薄膜。
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